2023上海國際光刻設備與光掩膜技術展覽會

　　Shanghai Photolithography Equipment and Mask Technology Exhibition

　　基本信息

　　時間：2023年11月22-24日

　　地點：上海新國際博覽中心

　　展會簡介

　　微電子技術的發展一直是光刻設備和技術變革的動力，21世紀光刻技術將繼續居于諸多技術之首。光刻技術從誕生以來,在半導體加工制造行業中,作為圖形轉移技術而廣為應用。隨著芯片集成度的不斷提高、器件尺寸的不斷縮小以及器件功能的不斷提高,半導體加工技術中為關鍵的光刻技術和光刻工藝設備,必將發生顯著的變化。

　　隨著集成電路產業的發展，芯片的集成度達到了數千乃至數億晶體管，推動芯片封裝技術向更高密度、更高性能發展，在傳統的接近/接觸式光刻機日趨無法滿足高性能、高密度、低成本的封裝工藝發展需求的情況下，大視場、大焦深、高精度投影光刻機逐步成為封裝生產線的關鍵設備。“2023上海國際光刻設備與光掩膜技術展覽會”將于11月22-24日在上海新國際博覽中心隆重舉辦，歡迎廣大相關單位參展、參觀！

　　參展理由

　　1、品牌吸引力-在同行和客戶間展示形象、提升行業地位、品牌價值度、榮譽度。

　　2、市場策略-了解市場信息、拓展銷售渠道、獲取市場訂單、維護銷售網絡。

　　3、建立進口、批發、經銷、團購、零售的銷售渠道。

　　4、獲取產品的忠實粉絲您的品牌將會被及大眾媒體關注和***宣傳，成為產品中的明星。

　　觀眾邀請

　　邀請全國、省、市、各相關科研單位：電子、微電子、光電子、集成電路、半導體、微/納電機系統、芯片制造、生物器件、納米科技、平板顯示、IC制造、光伏、******、******、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太陽能、印刷、影像等制造業、大學、研究所、咨詢機構和公共機構的專家代表等人員到會參觀、洽談。

　　展會亮點

　　平臺：行業采購交流平臺；

　　了解：規劃、設計與施工國內外產品新技術及服務；

　　建立：用戶直達現場，構建新的客戶關系；

　　結識：上下游產業聯動，精彩論壇、沙龍助推業界專家、同仁及用戶零距離接觸；

　　推廣：通過主承辦單位大的行業沉淀，為您提供廣闊的市場推廣；

　　日程安排

　　報到布展：

　　2023年11月20-21日

　　展出時間：

　　2023年11月22日

　　2023年11月23日

　　2023年11月24日

　　參展范圍

　　◆曝光光源、光學系統、電系統、機械系統和控制系統等；

　　◆光刻機、光刻技術、步進投影光刻機、掃描投影光刻機、納米光刻技術、無掩模光刻技術、沉浸式光刻技術、準分子激光光刻技術、極紫外光刻機、電子束光刻、離子束光刻、X***光刻、STM光刻、納米壓印光刻技術、微光刻技術、電子束曝光機、離子束曝光、3D 打印、刻蝕機、光刻機零部件、光刻前處理材料、曝光系統、光刻-掩模無機芯片與加工系統、光源與光刻膠、光刻膠原材料、光刻膠涂覆與處理設備等；

　　◆光掩膜、鉻版、干版，凸版、液體凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜圖形描繪設備、光掩模測試等；~如果你需要全國各地最新展會參展商名錄，展會會刊，請瀏覽198代收展會資料網【展商名錄會刊下載網址：www.zg198.net】坐在家中也能尋覓好的產品與項目！